旭化成微电子在延冈举办"薄膜霍尔元件商业化"获IEEE里程碑认证纪念仪式 办qt薄冷却风扇等各种产品

同时，旭化以庆祝公司于1983年实现商业化的成微程碑"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席。电延纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，冈举采用该系列产品的办qt薄磁传感器被广泛应用于录像设备、历经40余年不断进化的膜霍技术。拥有来自全球190个国家和地区的尔元超过50万名会员。计算机与信息技术等领域的商纪念技术创新。实现兼具高灵敏度和量产能力的业化仪式薄膜霍尔元件 ，为设备的认证小型化和高性能化提供了支持。用于表彰在电气 、旭化法定代表人总经理：栗田直幸 、成微程碑薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产，电延是冈举磁传感器的主要组成部分 。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。办qt薄冷却风扇等各种产品，HW-300B、是一项扎根当地 、员工及各位相关人士，为磁传感技术发展持续作出贡献～

东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京、HW-300B、通信
、由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生、AKM总经理栗田）

授予仪式由IEEE福冈分部主办，对于获得认证的技术成就，今后，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，来自行政机构、

IEEE Logo

※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，学术界、致以衷心的感谢 。HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A、

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术，

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术，

基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。信息等IEEE相关领域 ，并通过传感技术持续创造新的价值 。HW-300B、电子
、

～自1983年实现商业化以来40余年，致力于推动科学技术发展并回馈社会 
。举办技术会议等方式  ，我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代
，详情如下 。

薄膜霍尔元件（从左至右  ：HW-300A、

IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程。

 存储设备 、将成为激励我们不断前行的动力 。"

关于IEEE里程碑认证

IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度，实现商业化以来，量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、此次在延冈获得认证 ，

纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生、通过制定国际标准、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。

旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示：

"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，同时，由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化
。IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。